Shiseido D Program Overnight Refining Gel Mask 60g

Introduktion af Shiseido D Program Overnight Refining Gel Mask, en revolutionerende hudplejeløsning designet til at fremhæve din huds naturlige skønhed. Denne gelmaske retter sig mod hudens skønhedsfremmende bakterier og tilbyder avanceret skønhedsbioteknologi for at forhindre pletter, fregner, akne og rødme. Med en kraftfuld blanding af Tranexaminsyre og Dipotassium Glycyrrhizinate fugter den dybt, hvilket resulterer i frisk, lys og klar hud. Denne rene formulering er fri for parabener, alkohol og kunstige dufte, hvilket gør den ideel til sensitiv hud.

• Opfriskning og lysning: Undertrykker melanin for at forhindre pletter og fregner og fremmer en strålende teint.
• Dyb fugtgivning: Beriget med kraftfulde fugtgivere som natriumhyaluronat, trænger den dybt ind for at nære og forynge din hud.
• Venlig mod sensitiv hud: Med et lavstimulerende design er den testet for at sikre sikkerhed for sarte hudtyper.

• Produktet
• Individuel produktindpakning
• Traditionel gavepakke
• Beskedkort med kuvert
• Japansk Ume-musubi bånd med mærkat
• Midterindpakningspapir

Active Ingredients:
Tranexamic Acid, Dipotassium Glycyrrhizinate

Other Ingredients:
Yeast Extract, Trehalose, Xylitol, Erythritol, Sodium Hyaluronate, Salmon Placenta Extract, Aloe Extract, Odoriko Sou Extract, Trimethylglycine, Diglycerin, Purified Water, 1,3-Propanediol, Propylene Glycol, 1,3-Butylene Glycol, α-Olefin Oligomer, Methylpolysiloxane, Polyoxyethylene (17) Polyoxypropylene (4) Dimethyl Ether, Polyoxyethylene Glyceryl Ether, Pentaerythrityl Tetraethylhexanoate, Cetyl Ethylhexanoate, Petrolatum, Behenyl Alcohol, Hydrogenated Oil, Crosslinked N,N-Dimethylacrylamide/2-Acrylamido-2-Methylpropane Sulfonic Acid Copolymer, Carbomer, Batyl Alcohol, Sodium Metabisulfite, Potassium Hydroxide, N-Lauroyl-L-Glutamate (Phytosteryl/2-Octyldodecyl), Sodium Pyrosulfite, Polyoxyethylene (14) Polyoxypropylene (7) Dimethyl Ether, Phenoxyethanol.